卓上型高周波誘導加熱装置MU-mini

研究・実験用途に特化した
高周波誘導加熱装置の決定版

カタログ

Features特長

コンパクト設計

コンパクト設計でスペースを取りません。
（460W×390D×700H）

急速加熱

誘導加熱方式で急速加熱が可能です。
（純鉄50g溶融が2分以内）

間接加熱対応

導電性ルツボを使用すれば無機材料でも間接加熱が可能です。

バルブ配管済み

真空・ガス置換に必要なバルブが配管済みです。

タッチパネル操作

タッチパネル採用で設定・確認が容易です。

省エネ設計

急速加熱のため、消費電力の大幅カットを実現。

Specification仕様

MU-mini

高周波出力
2.8kW max
発振周波数
410kHz±10kHz
コイル冷却
水冷式
出力制御方式
手動ボリュームによるマニュアル制御
出力制御範囲
20～100%
真空・置換部
透明石英管（内径約φ44×200[H]mm）
真空性能
到達真空度10Pa以下（真空ポンプ性能に依存）
導入ガス
窒素、アルゴンなどの不活性ガスのみ
外形寸法・重量
460[W]×390[D]×700[H]mm（20kg）
電源条件
単相AC200V±10%、50/60Hz±5%　20A以上
冷却水条件
供給圧0.2～0.4MPa 水温20～25℃ 供給量1リットル/分以上
標準付属品
  • 電源ケーブル5m
  • 冷却水配管3m×2本

Function機能

使い勝手の良い操作コントロール

Optionオプション

  • 真空ポンプ（当社推奨真空ポンプRSP-031M）
  • 冷却水循環装置（標準は水道蛇口直結）
  • ピラニ真空計

Example活用事例

加熱・溶融

  • 新素材の開発（合金製作、超高温処理）
  • 金属精製（ゾーンメルティング）
  • バルク熱処理（焼きならし、焼鈍し、焼入れ、焼き戻し、容体化）
  • サーフェース熱処理（浸炭、窒化、酸化、軟化、滑化、改質）

熱サイクル試験

  • タービン、プラグ熱疲労試験
  • クリープ熱疲労試験
  • 酸化試験